3M™ Novec™ HFE Cleaning

반도체 건식 에칭 부품의 습식 세척

최근 몇 년 동안 3M Novec HFE 유체는 반도체 건식 에칭 부품의 습식 세척에 매우 효과적인 것으로 입증되었습니다. 세척 속도와 유리한 안전 및 환경 프로필로 인해 유전체 필름의 건식 에칭 중에 형성된 불소 중합체 침전물을 세척하기 위해 IPA 및 아세톤과 같은 기존 용매를 대체하는 데 자주 사용됩니다. 이러한 고급 불연성 재료는 챔버의 와이프 세척 및 부품 세척 욕조에 유용합니다.

Novec HFE 유체의 낮은 표면 장력은 기존 용매보다 더 큰 침투를 허용하여 금속 또는 비금속 부품에서 뛰어난 세척 성능을 제공합니다. Novec 유체의 높은 세척 효율은 추가적인 기계적 힘, 열 또는 교반을 필요로 하지 않을 수 있지만 스크러빙 및 초음파를 사용하여 매우 완고한 침전물을 제거하거나 세척 시간을 단축하는 데 도움이 될 수 있습니다.

	Water	Novec 7100	Novec 7200	Novec 7300	Novec 7500
Surface tension (dynes/cm)	73	13.6	13.6	15	16.2

제품명	비중 (g/ml)	끓는점 (°C)	표면장력 (dynes/cm @25°C)	점도 (cPS @25°C)	Vapor Pressure (mmHg @25°C)
Novec 7100	1.51	61	13.6	0.57	200
Novec 7200	1.42	76	13.6	0.62	109
Novec 7300	1.66	98	15.0	1.18	45
Novec 7500	1.61	130	16.2	0.77	15
Novec 71IPA	1.38	54	14.5	0.75	207